干涉辅助光谱拟合法用于薄膜厚度的精确测定

干涉辅助光谱拟合法用于薄膜厚度的精确测定(中文4100字,英文PDF)
提出了一种利用干涉层进行光谱拟合，精确确定薄膜厚度的新方法，特别适用于超薄薄膜。测定限可达1 nm以下。它的精度远高于传统方法。该测定方法经实验验证，与原子力显微镜(AFM)测定结果相比，测定限至少为3.5 nm。提出了一种双干涉辅助光谱拟合方法，降低了测定仪器的要求，从而使用低精度的普通光谱仪测定薄膜厚度，大大降低了成本。它是一种非常高精度的现场和现场应用的测定方法，特别是对超薄薄膜。